北京利华基业离子束科技有限公司成立于2010年。公司日常业务有研发离子源,电子束产品、磁控溅射靶、空心阴极，高能离子源等。其中空心阴极有含热子的阴极，发射体为六硼化镧材料，可以用于空间电推进等领域。高能离子源可以发射十万电子伏特能量的离子。北京利华基业离子束科技有限公司员工自主研发的四厘米考夫曼的源体和电源的第二代产品问世，可有用于半导体等行业，并在投入应用后得到一致好评。公司对全国从事相关行业的专业人士承诺：“立足创新、精益求精、诚信服务”作为公司经营理念，和您一起为祖国的真空事业携手共创新篇章！
公司主要产品及服务：
- 水冷霍尔离子源
- 水冷考夫曼离子源
- 阳极层离子源
- 根据客户要求研制设计磁控溅射靶
- 溅射靶材,设计制造真空系统
- 光学镀膜,表面改性设备配置咨询
你为材料不充分氧化而烦恼过吗？或者膜层的粘附性、致密性差而引起的波长漂移、重复性不好再现性差而头疼过吗？北京利华基业离子束科技有限公司给您提供优质的离子源产品的同时给您提供良好的光学镀膜设备,表面改性真空设备配置方案，帮您解决技术上的难题!
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