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霍 尔 源 应 用 及 测 试

霍尔源 HALL149 - 10A型的应用例子
霍尔源 HALL1149 - 10B 型的应用例子

    以上两组曲线是540nm和1085nm中心波长的高反射镜,材料均为 TiO2 和 SiO2 、基片为 K9 玻璃、另一面没镀增透膜情况下岛津设备测量的透过率,基片温度150度,层数均超过20层,第二个曲线的实际厚度比第一曲线的厚度的2倍以上。截至深度都达到10-4的同时短波带的透过率最高值表明TiO2的吸收控制得非常出色。

&    注意事项:在镀膜实验中发现,本离子源在K9玻璃上镀Ag和SiO2内反膜,膜层不牢固.原因:两者热膨胀系数相差太大.在PMM塑料片上镀膜,膜牢固,但用酒精擦拭,掉膜.镀MgF时,单纯冷镀,效果不理想,必须加温,温度不需太高.

HALL149-10B安装在ZZSX-900镀膜机
霍尔等离子体源电源装在电控柜上
霍尔等离子体源
霍尔等离子体源镀膜工作照

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