公司自行研发的Kion-12cm型号考夫曼离子源弥补了国产离子源的长期以来阳极不易清洗，离子流低无水冷的缺点；采用独特的气体绝缘器，,即使在高压下，气体也不会击穿；设计出的阴极结构具有安装简捷方便的优点，在离子能量、离子均匀区、束流等方面Kion-12cm型号考夫曼离子源能以外长时间能够稳定工作、其电源实现一键式操作等优点，重要参数仪表安装在电源中心位置并采用数显方式。本公司研制的系列考夫曼离子源中采用了一些独特的设计：通过对磁场进行有限元分析，采用多极会切磁场设计和独特阳极设计，保证较大的无场区，同时减小快速电子从会切点的逃逸，从而减小功耗。具有体积小，结构紧凑、操作方便、性能可靠、用气量小和阳极清洗方便等一系列优点。通过进行离子光学数值仿真，并经过多次正交实验，采用变孔，位移和发散场方法优化栅网尺寸，不但有较大离子流而且有较大的均匀性。
    考夫曼离子源现已在薄膜辅助沉积和表面处理中得到了日益广泛的应用，特别适用与中远红外镀膜。其膜层不但牢固，而且能在射频化学气相沉积条件下承受高温不脱膜。